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一酸化グラフェンが次世代の半導体合成に役立つか

ウィンスコンシン・ミルウォーキー大学(UWM)の技術者と科学者達は、将来の半導体技術になるものを偶然発見しました。勿論これは始まったばかりの初期段階ですが、科学者達はグラフェンに半導体の性質を与える一酸化グラフェン(GMO)と呼ばれる素材を合成しました。皮肉なことに、彼らは一酸化グラフェンを探していたわけではなく本当はチームで酸化グラフェンからカーボンナノチューブを作ろうとしていたのです。

UWM discovery advances graphene-based electronics

チームはかれらの研究であるカーボンナノチューブを合成するために、純粋なグラフェンシートを得ようと酸化グラフェンを加熱していました。しかし加熱工程のある時点で酸化グラフェンが一酸化グラフェンに代わっている事に気付き、それは半導体の様に安定した構造を形成しているようでした。チームは様々な温度で加熱しその工程を通して4つの異なる物質をつくり、総称してGMOと名付けました。

新しいGMOの層は半導体の特性を示すだけでなく、将来のトランジスタなど現在のシリコンベースに代わる電子部品の合成を可能にするかもしれない性質を持っています。シートの形をしている事から一酸化グラフェンは化学反応における表面の触媒として、医療用処置にも使うことが出来ます。グラフェン半導体は精度を増し商業用にも使用することが出来ます。GMOは多くの事を約束し現在あるものを世界の将来に繋げます。この合成を完全なものにする為に、どの様に温度がそれに影響するのかマクロスケールでどのように合成するのか等、実際にこれが現代の電子回路に使われる有効な素材となるまでには、まだまだ多くの課題が残されています。

Via: Uwm

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